第140章 白云石的二步煅烧

分布式投影光刻机，是继接触式光刻机后，主要适用于大规模集成电路时代生产的光刻机器。

直接点来说，就是难做。

目前半导体研究所的工艺精度，连亚微米级别都只能勉强达到，想要实现困难重重。

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