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内容简介
“集成电路系列丛书”编委会
编委会秘书处
出版委员会
“集成电路系列丛书·集成电路制造”编委会
“集成电路系列丛书”主编序言
前言
第1章 绪论
1.1 MEMS技术发展历程
1.2 典型MEMS产品
1.3 MEMS发展缓慢的主要原因
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1.4 MEMS发展的启示
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参考文献
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第2章 常规集成电路制造工艺简介
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2.1 集成电路制造工艺流程
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2.2 清洗工艺
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2.3 氧化和扩散工艺
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2.4 光刻工艺
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2.5 离子注入工艺
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2.6 用于布线的金属薄膜工艺
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参考文献
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第3章 三维微机械结构湿法腐蚀技术
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3.1 各向同性腐蚀技术
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3.2 各向异性腐蚀技术
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3.3 自停止腐蚀技术
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3.4 多孔硅湿法腐蚀技术
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参考文献
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第4章 三维微机械结构干法刻蚀技术
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4.1 深反应离子刻蚀技术
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4.2 XeF2干法各向同性腐蚀技术
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4.3 气相HF腐蚀
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参考文献
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第5章 键合技术
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5.1 硅-硅直接键合技术
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5.2 硅-玻璃直接键合技术
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5.3 带金属中间层的键合技术
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5.4 黏附层键合
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5.5 X-硅键合
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5.6 键合强度检测
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参考文献
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第6章 低应力薄膜制造技术
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6.1 多晶硅薄膜
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6.2 氮化硅薄膜
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6.3 二氧化硅薄膜
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6.4 压电薄膜
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6.5 非晶硅薄膜
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6.6 工艺检测
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参考文献
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第7章 牺牲层技术
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7.1 多晶硅/SiO2牺牲层技术
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7.2 金属/光刻胶牺牲层技术
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7.3 介质材料/单晶硅牺牲层技术
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参考文献
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第8章 膜结构制造技术
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8.1 膜结构简介
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8.2 开放膜结构
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8.3 封闭膜结构
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8.4 岛膜结构
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8.5 常见膜结构的应用和相应的制造工艺
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参考文献
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第9章 梁结构制造技术
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9.1 单臂梁结构
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9.2 多臂梁结构
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9.3 双面梁结构
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9.4 梳齿梁结构
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参考文献
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第10章 纳米敏感结构制造技术
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10.1 硅纳米线制造方法及关键工艺
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10.2 鸟嘴型硅纳米线制造方法
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10.3 顶层硅纳米线阵列制造方法
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10.4 底部硅纳米线阵列制造方法
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10.5 双层硅纳米线制造技术
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参考文献
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第11章 典型MEMS芯片制造工艺流程
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11.1 惯性传感器
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11.2 压力传感器
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11.3 热电堆红外传感器
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11.4 体声波谐振器
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11.5 硅传声器
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11.6 压电微机械超声换能器
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参考文献
更新时间:2022-08-16 19:04:59